TOP > 半導体年表 > 1968年の半導体産業・技術分野の重要な動向
1968年は、半導体技術の発展と市場の成長が加速し、特にMOSトランジスタの進化、IC（集積回路）の普及、半導体メモリ技術の発展、そして半導体業界の再編が進んだ年でした。また、この年にはIntel（インテル）の創業という半導体業界にとって極めて重要な出来事がありました。
Intel創業の背景
●ロバート・ノイス（ICの共同発明者）とゴードン・ムーア（ムーアの法則を提唱）がフェアチャイルド・セミコンダクターを退社。
●フェアチャイルドの組織の硬直化を嫌い、新たなベンチャー企業としてIntel（Integrated Electronics）を設立。
●Intelは、当初はメモリ市場に焦点を当て、高速な半導体メモリの開発に取り組む。
MOSトランジスタの進展
●MOS ICの商用化が進み、従来のバイポーラICに対する競争力が向上。
●低消費電力の特性が評価され、特に電卓や小型電子機器への応用が始まる。
●CMOS（Complementary MOS）技術の研究が進み、将来的な省電力化の可能性が広がる。
IC市場の動向
●IBM、AT&T、NASAなどがIC技術を積極的に採用。
●アポロ計画の誘導コンピュータ（AGC）にICが使用され、NASAの技術革新が進む。
●テキサス・インスツルメンツ（TI）やフェアチャイルド・セミコンダクターがICの商用展開を拡大。
●日本企業（日立、NEC、東芝など）がIC開発に本格参入。
主な技術進展
●Intelの創業メンバーが半導体メモリの可能性を模索。
●SRAM（Static RAM）の開発が進み、より高速なメモリが登場。
●DRAM（Dynamic RAM）の研究が進展し、後のDRAM市場の成長の布石となる。
主要な製造技術の進展
●フォトリソグラフィ技術の向上により、より微細な回路パターンの形成が可能に。
●エピタキシャル成長技術の改良により、シリコンウェーハの品質が向上。
●プラナープロセス技術が一般化し、ICの信頼性と歩留まりが改善。
日本企業の動向
●日立、NEC、東芝、三菱電機がICの開発・製造を強化。
●日本政府が半導体産業を支援し、研究開発の推進を強化。
●ソニーやシャープがトランジスタ技術を活用した製品開発を加速。
主要な動向
●NASAのアポロ計画で半導体ICが多数採用され、宇宙船の電子システムの性能が向上。
●米軍がミサイル誘導システムに半導体技術を採用し、精度を向上。
●DARPA（国防高等研究計画局）が半導体技術の研究開発を支援。
半導体技術、半導体市場の歴史年表です。
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